鋅鎳（niè）合金鍍層（céng）陰暗原因分析鍍層陰暗

 鍍層陰暗多（duō）數出現在低電流密度區，偶爾也有出現在中電（diàn）流密度區或高電流密度（dù）區。
低電流密度區鍍層陰暗可能是鍍液（yè）溫度太高，電流密度太小（xiǎo），主鹽（yán）濃度太低；
次級光亮劑過多或鍍液中（zhōng）有銅（tóng）、鋅雜質引起（qǐ）的；中電（diàn）流密度區鍍層陰暗（àn）可（kě）能是由（yóu）次級光亮（liàng）劑太少，有機雜質（zhì）過（guò）多或（huò）有一定量的（de）鐵（tiě）雜質造成的；
高（gāo）電流密（mì）度區（qū）鍍層陰暗可能是鍍液pH太高，初級光亮劑（jì）太少或鍍液中有少量的鉻酸鹽、磷酸（suān）鹽及鉛雜質引起的。
此外，鍍前處（chù）理不良，鍍（dù）件表麵有堿膜或有機物吸附膜，或者底鍍層不好也會導致鎳層出現陰暗的現象（xiàng）。
分析這類故障，可（kě）以取鍍鎳液先做（zuò）赫爾槽試驗，假使多次試（shì）驗，赫爾槽的陰極樣板上鍍層狀況良好，沒有出現陰暗的現象，
那麽電鍍時出現的故障，可（kě）能是鍍（dù）前處理不良或底鍍層不好造成的，應該認真檢（jiǎn）查電鍍前的情況。
若赫爾槽試驗所得的陰極（jí）樣板上出現（xiàn）低電流密度區鍍層（céng）陰暗，則可以根據前（qián）麵提到的（de）可能原因進行分析。
中、高電流密度區鍍層陰暗，也可用類似的方法進（jìn）行試驗，這（zhè）裏不再贅述。

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