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電鍍的鍍(dù)液與工藝選擇

發布日期:2019-8-14

 (一)鍍液選擇

鍍液與工(gōng)藝參數(shù)的選定(dìng),是(shì)產品進行電鍍前必要的工作。鍍液與所用的工藝條件,須由產品(pǐn)的要求來確定。目前能采用的工藝已經很多,不同的配(pèi)方和(hé)工藝條件可以 很容易地(dì)查到。選擇鍍液的配方和配套的(de)工藝(yì),首(shǒu)要的是能(néng)針對性地滿(mǎn)足產品(pǐn)的質量要(yào)求,其次便是考慮可能得以(yǐ)實(shí)施的環境和條件。 

產品(pǐn)要求電鍍,一般(bān)大多是為了裝飾防護或者增(zēng)強其功能。無論是何種目的,所鍍(dù)出的鍍層都必須是一層均勻的(de)完整(zhěng)覆蓋,這是最基本(běn)的要求。如果被鍍件形狀複 雜,或具有小的內(nèi)孔(kǒng)、凹陷或盲孔,或者(zhě)材料與表麵很特殊,電鍍工藝就必須細致研究分析後才確定,以便滿足這些特殊情況。鍍液是否能具備足夠的宏觀與微觀分 散能力,顯然是必須要考慮的。

 通常電鍍溶液(yè)的配方大體上可以分為兩類。按照電極上離子交(jiāo)換時(shí)具備的形態,簡單的水合離子(zǐ)和加入絡合劑或鼇合劑後生(shēng)成的較複雜離子。在分(fèn)散能力、電鍍速(sù) 度(dù)、鍍層結晶結構和特(tè)性等(děng)方麵都有明顯差別(bié)。如果零件形狀並不特(tè)別複雜,鍍層也能滿足要求時,宜盡量(liàng)選用較簡單的鍍液配方。這樣不僅成(chéng)本低,易於控製和管 理,而且更重要的是(shì)汙水也較易治(zhì)理。

 對於(yú)一種實用的電鍍溶液,下列項(xiàng)目須著重考(kǎo)慮。

 1溶(róng)液的總體濃度

 離子濃度高可以提高容許的極限電流密度。但材料的成本也上升。隨之鍍液從槽內帶出的損耗和引起的汙(wū)水處理成本也增加。

 2添加的組(zǔ)分

 鍍液中添加的組分(fèn)不宜太多,否則難(nán)於控製和調整,實際上無法保(bǎo)持工藝的穩定。即便是非分解性的組分,也會帶來分析和調整的困難(nán)。組分的壽命也要考慮,會自 行分解(jiě)或在(zài)電解過程中發生變化、半衰期短的盡量不用。有些化合物加入(rù)後十分有(yǒu)效,但汙水難於處理的也不宜加入,否則會遇到環境汙染的限製。有毒物質更要慎 加。

 3溶液的(de)工(gōng)作溫度

 常溫工(gōng)作的(de)電鍍溶液當然(rán)比較理想,可以節省設備投資和能(néng)源消耗。但工作溫度區間不宜太窄(zhǎi),否則仍避免不了要配備加溫設施,甚至配備冷卻設(shè)備。總體來講,鍍 液要求加溫並不一定都會提高成本,這要看實際要保持的溫度和(hé)相應獲得的(de)好處。綜合的效(xiào)益(yì)取決於選擇協調的工藝。

 4相應的配套工藝(yì)

 一般地說,選用的鍍液要具備較高的操作(zuò)柔性。對操作(zuò)要求苛刻的鍍液並非好的鍍液。有些鍍液效果雖好,但對輔助工作要求條件很敏感(gǎn),必將在生(shēng)產中窮於應付。 鍍液(yè)不宜過分地要求工藝配(pèi)套,或者容許參(cān)數範圍過窄,以避免難於監控和調(diào)整維護。例如要求表麵準備過嚴,便相應要增加成本和廢品率。

 5研發與生產

 電鍍在很大程度上是服務性的工藝,而其本身從(cóng)化學和電化(huà)學角度也是(shì)一種較複(fù)雜的工(gōng)藝係統。電鍍工藝的選擇實際上還與產(chǎn)品本身的設計和(hé)結構、零件的材料和加 工方法、組件和部件的裝配過程、產品的貯存環境和貯存期、使用的條件與預期壽命等諸多因素息息相(xiàng)關(guān)。自(zì)身的(de)特點還有工藝的穩定性和柔性、與人力資源和環境 要求的協調、材料的供應和能源(yuán)配備等等。因此,特別是對於(yú)新的工藝研究,必須有中間放大和開發的(de)過程以找出問(wèn)題,否則不適應和被動常會發生。

 (二)穩態與(yǔ)介穩沉積(jī)

 1穩態沉積

 實現穩態沉積,可(kě)以控(kòng)製(zhì)恒定電價,也可以控製恒定電流。恒電位有利於針對極化和析出電位來監控,以便在一定的沉(chén)積電位下控製沉(chén)積的離子品種、合金成分、電 流(liú)效率等,並可以省去隨著生產情況變化而(ér)調控電流。但是這(zhè)種操作須用參比(bǐ)電極構成(chéng)三電極係統,對(duì)於大的設備(bèi)特別是電流分布複雜時生產實踐不(bú)易。恒電流(liú)操作 控(kòng)製相對比較容易,所以在生產上大多采用控製電流的方法。

 通常習慣按照鍍液(yè)的要求,選定適宜的電流密度及可容許的偏差範圍,給足所需的(de)電流(liú)密度並使之保持穩定。當采用常規的恒穩直流時,這種操作也比較方便。恒定的電流易於直(zhí)接與法(fǎ)拉第沉積量相聯係。但是在這種情況下,鍍液的狀態對於沉積速度和質量而言便會是第一位的。

 通常采用的鍍(dù)液(yè)多為單鹽或加(jiā)入(rù)絡合劑來組成。常用的單鹽有硫酸鹽(yán)、氯化物、氟硼酸鹽等(děng),少數情況也采用氨基磺酸、乙酸、檸檬酸等複雜一些(xiē)的酸鹽。許(xǔ)多單鹽傾向於在一級電離中便離解為所(suǒ)需的金(jīn)屬離子,並以(yǐ)水化形(xíng)式存在於溶液內。

 絡合型的鍍液(yè)通常(cháng)是加入經選擇的絡合(hé)劑或鼇合劑。例如:氰化物、氨或強堿、焦磷酸鹽、氨三乙(yǐ)酸’(等,一些有機物也常被采用。這些鍍液往往要經二級(jí)電離來提供所需(xū)的金屬離子,因而放電過程的單鹽複雜。但是其極化特性和宏觀分散能力一般比單鹽要好。

 這兩類鍍液維持(chí)穩定沉積的機製並不(bú)相同。用簡單鹽類的鍍液常依靠遊離的酸堿來調節離(lí)子的活度(dù),或利用同(tóng)離子效應。)*值(zhí)的監控對這種(zhǒng)鍍液也很重要,為此常 須加入緩衝劑。導電劑也(yě)是(shì)常有的組(zǔ)分,並常(cháng)有同離子效應的雙重作用。絡合型或(huò)加鼇合劑的鍍液須監控其反應(yīng)後的富裕量,即遊離的絡合劑濃度以保持反應物的穩 定和維持絡合平衡,因而操作控(kòng)製要複雜一些。單鹽的溶液有時也采用複鹽,而(ér)絡合型的鍍液也可(kě)能(néng)存在兩種或更多的絡合物。

 當保持電鍍溶液在恒定的溫度、不加攪拌並且(qiě)給定恰當的電流密度時,如無其他附加因素或(huò)場強的影響,電鍍過程(chéng)可以處於相對(duì)的定(dìng)態(tài)。實(shí)際上鍍層的質量和沉積(jī)的速(sù)度(dù)取決於電鍍溶液(yè)和工藝參數的穩定。不適當的擾動將損(sǔn)害(hài)電鍍質量。

 各種添加劑包括促進細晶、改善分散(sàn)能力、實現整平提高平整度以及使鍍層光亮等目前品種甚多,專用性較強(qiáng)並目效果視情況而異。許多具體的產品業已商品化。這 些添加劑大多是依靠在電極界麵上(shàng)的吸附來起作用,因而往往是複雜結構(gòu)的有機物,有時是數種物質混配。這些添加劑大(dà)體(tǐ)上是通過試驗來尋覓,目前還(hái)沒有統一可 行的理論指導來挑(tiāo)選。

 添加劑有損耗性和無損耗性的兩類,後者(zhě)僅因鍍件帶出而消(xiāo)耗。電解(jiě)常使有機物(wù)在電極表麵分解,因而添加劑(jì)應隨電鍍量的增加而補充。分解後的產物是否有害也要 考慮,否則在補充添加劑的同時要定期(qī)清理鍍液。添(tiān)加劑中有許多也帶有表麵活性,因(yīn)此往往利用表麵張力的(de)測試(shì)來監控。!!!關係也是一種監控的方法。多(duō)數情 況(kuàng)下(xià)添加劑的消耗量要通過研發階段(duàn)及中間放大過程(chéng)來總結。有時在生(shēng)產中不進行測試而按鍍槽的實際生產量即安培小時數來補充添加。許多(duō)商品添加劑因為希望成 分保密而建議采用(yòng)這種添加方法以(yǐ)避免化驗和監(jiān)測。鍍層質量(liàng)對添加劑的品種和(hé)加入量很敏感,所以要慎重選擇和監控,特別(bié)是不知道成分時,否則易出質量事故。 赫爾槽測試也很有用。

 2介穩沉積

 電(diàn)流密度的大小,在很大程度上決定電鍍的速度,所以一般(bān)都希望能用較高(gāo)的電流密度和寬廣的電流密(mì)度容許範圍,這樣便能鍍得較快(kuài),並且方便操作。寬廣的電流 容許(xǔ)範圍有利於大的和複雜形狀的鍍件取得厚度和結構較為均(jun1)勻的鍍層。與此同時,也希望有較高的電(diàn)流(liú)效率和電(diàn)流效率的穩定性,因為這(zhè)不僅是鍍速問題,也能減 少能耗。

 實踐(jiàn)上的電(diàn)流密度並(bìng)不等同於理論電流的極限,即在傳質控製下使電極(jí)界麵處的(de)離子濃度降低到零。實際生產中要(yào)求的是能夠在被鍍零件上鍍出好(hǎo)的鍍層的最高可用 的電流密(mì)度。在這(zhè)裏(lǐ),工程需要是主要的考慮。所以,在電鍍(dù)生(shēng)產實踐中(zhōng)應用的電流密度,或者說一般意義上的極限電(diàn)流密度要比理論值低很多。高於這個實用的極 限(xiàn)一(yī)般隻能用於(yú)暫時,例如鍍(dù)鉻時,短時提高起始電流以求獲得較好的覆蓋。

 傳統的提高可用電流密(mì)度(dù)的方法(fǎ)首推攪拌。對電鍍溶液的攪(jiǎo)動,包括機械或(huò)空氣(qì)攪拌、連續泵(bèng)送、運動鍍件等方法,有(yǒu)助於鍍液內的傳質(zhì),從而往往可(kě)以較大(dà)幅(fú)度(dù)地 提高可用的(de)電流(liú)密度。但攪拌必須均勻,否則無法保證產品質量的均勻。同時攪拌也可以使溶液內的沉渣漂浮,易於導致鍍層變壞。

 為了消(xiāo)除單純的攪拌所帶(dài)來的問題(tí),同時也能(néng)在提高鍍速的(de)同時改善鍍層結(jié)構和外觀質量,上個世紀年代興起了(le)周期換向電流電鍍的方法。通過短時(shí)的將鍍件從陰極 轉為(wéi)陽極,便使鍍層進入一個溶解(jiě)過程(chéng)。這種(zhǒng)方法可以改善鍍層結構,減少(shǎo)氣孔,同時也有(yǒu)拋光作用而使鍍層更為光滑細致。

 通過電流的周期換向和變(biàn)動以及各種不同攪拌(bàn)的方法,可(kě)以看(kàn)到,對(duì)於(yú)恒定電流的維持穩態(tài)的沉積時,如果利用不同場強來施加擾動,便有可能獲得較好的效益。實際(jì)上可以施加到電鍍過程的種種擾動,可以包括電(diàn)場、力場、磁、熱、聲、光等各個方麵(miàn)。

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