關（guān）於鍍（dù）金那（nà）些事（shì）（一）

鍍金（jīn），是指在材料外表麵通過物（wù）理、化學或電化（huà）學的方式塗覆（fù）一層金層。這（zhè）裏（lǐ）不（bú）是指出國留學“鍍金（jīn）”，或傳統的火燒高溫（wēn）鎏金等（děng），這裏（lǐ）特（tè）指的（de）是工件為了諸如具有導電、防腐、焊接、裝（zhuāng）飾等功能性需求、利用真空離子濺射（shè）或化學沉澱或電解沉積方式在其表麵沉積（jī）塗（tú）覆一層黃金塗層（céng）。在此（cǐ）概念下，按照沉積方式（shì），常規鍍金方法有：真空濺射（shè）法（通常稱為PVD）;化（huà）學沉（chén）積（又稱“化學鍍金”或“無電沉（chén）積鍍金”）；電解電鍍金--簡稱（chēng）電鍍金。

PVD鍍金，即真空鍍金，顧（gù）名思義就是工（gōng）件（jiàn）在真空爐內，讓鍍覆層材料（liào）（鍍金就用黃金）做靶材，在高溫（wēn）高真空高電（diàn）壓的狀況下放電，產生離子束，在外加電場的作用下，濺射到需要塗覆（fù）的材料表（biǎo）麵，形（xíng）成金層。當然，在鍍金（jīn）前還會根據被鍍工件的其（qí）它要求，先可能會鍍覆諸如鈦、鉻、鎳等其它金屬或這些金屬（shǔ）的氮化物等塗層。

這裏說的是真正的真空鍍（dù）金工藝方法，又叫“爐內金”。“爐內金”因（yīn）為金鈀產生的金離子充斥（chì）整（zhěng）個真（zhēn）空爐內（nèi），被（bèi）鍍工件表麵接收的金離子比例低，黃金利用率低，所以成（chéng）本較高。但目前市麵上（shàng）大部分廠家，為了節約（yuē）成本（běn），都會采用事先在真空爐內先（xiān）鍍（dù）底層塗層，然後取出，再利用電解鍍金法（水鍍）鍍金，該方法因（yīn）為鍍金（jīn）是在真空爐外鍍金，故市場又稱為“爐外金”。

“爐內金”具有比“爐外金”硬度高、耐（nài）磨，但價格高的（de）特點，適用於有價值的產品上。而“爐外金”其成本低，適合那些諸如首飾家（jiā）私等隻有外觀需要（yào）的廉價（jià）配件。