鍍液是（shì）由什（shí）麽組成的

 鍍（dù）液組成（chéng）
目（mù）前研究和使用（yòng）的三價鉻電鍍液主要成分（fèn）如下：
(1)主鹽：當前三價鉻鍍（dù）鉻體係主要有氯化物體係，硫酸鹽體係和硫酸鹽（yán）-氯（lǜ）化物混合體（tǐ）係。
氯化物鍍液導電好，電壓低，鍍液分散能力、覆（fù）蓋能力（lì）和電流效率較高，但陽極會析（xī）出有毒的CL2，且對設備腐蝕較重;硫酸鉻電鍍時陽極（jí）析出無毒的（de）氧氣（qì），無（wú）汙（wū）染，但鍍液（yè）導（dǎo）電性不（bú）如氯化物，鍍液分散能力、覆蓋能力和電流（liú）效率較低。
(2)絡合劑：通常為羥基羧（suō）酸及其鹽，如甲酸（suān）和乙酸鹽、氨基乙酸、草酸及其鹽，檸檬酸及其（qí）鹽，硫氰算眼和酒石（shí）酸鹽等。
(3)導電鹽：減少電能（néng）的消耗。多為鈉、鉀（jiǎ）、銨（ǎn）的氯化（huà）物和硫酸鹽。
(4)緩衝劑：維持鍍（dù）液PH值穩定。多為硼酸、醋酸鹽、鋁（lǚ）鹽以及檸檬酸鹽等。
(5)穩定劑：複合（hé）型還原劑，抑製和降低六價鉻的產生。多為甲醇、亞硫酸鈉、鹵化（huà）物等。

工藝條件（jiàn）
(1)溫度：最（zuì）好在（zài）室溫下進行，工作溫度一般控（kòng）製在15～55℃。溫度升高（gāo）會降低濃（nóng）差極（jí）化（huà），並（bìng）使CR3+的析出點位正移，同時析氫嚴重（chóng），不利於鉻的沉（chén）積。
(2)PH值為1～4。PH值低時析氫嚴重，陰極（jí）電流效率降（jiàng）低，PH值高時易發生羥橋化反應，鍍層發暗。
(3)電流密度為3～100A/DM2。陰極電流密度範圍較（jiào）寬，但較低時會影響鉻沉積速度，陰極電流密度過高（gāo）會影響（xiǎng）到鍍層性能。
(4)電（diàn）流效率為10%～25%。可以進行輕微攪拌。
另外，三價（jià）鉻鍍鉻有單槽方式和雙（shuāng）槽方式，單槽方式中（zhōng）的陽（yáng）極材料是石墨棒，與其他普通電鍍一樣;雙（shuāng）槽方式使用了陽極內槽，可以使用鉛錫合金陽極罩，另外作為陽極基礎液使用了稀硫酸。

三價鉻鍍鉻優點
三價鉻（gè）電鍍具有下（xià）列優點：
(1)毒性低，汙染小。鍍液清洗水中不含六價鉻，廢水稍（shāo）加處理即可排放，且電鍍過程不產生有毒的（de）鉻酸霧;
(2)鍍液濃度低,隻有六價鉻鍍鉻的1/10，分（fèn）散能力和覆蓋能力好，成品率提高;
(3)電鍍過程不受電（diàn）流中斷的影響，無需退鍍;
(4)陰極電流效率可達21～25%，高於六價鉻電鍍，提高了生產率。

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